刘远(教授)

博士生导师 硕士生导师

出生日期:1984-11-26

入职时间:2018-07-06

所在单位:集成电路学院

学历:博士

性别:男

学位:工学博士学位

在职信息:在职

学科:微电子学与固体电子学
电路与系统
控制理论与控制工程

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

Liu Y., Liu K., Chen R., et al. Total-Ionizing-Dose Radiation Effects in the P-type Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors. Chinese Physics Letters. 2017, 34(1): 018501

点击次数:

是否译文:

上一条: Chen Y. Y., Liu Y.*, Wu. Z. H., et al. Low Frequency Noise in Amorphous Indium Zinc Oxide Thin Film Transistor with Aluminum Oxide Gate Insulator. Chinese Physics Letters. 2018, 35(4): 048502 下一条: Liu Y., Wu W. J., Qiang L., et al. Temperature Dependence of Electrical Properties in Indium Zinc Oxide Thin Film Transistors. Chinese Physics Letters. 2015, 32(8): 088506.