广东工业大学教师主页平台管理系统潘继生--中文主页-- (1) Qixiang Zhang, Jisheng Pan *, Xiaowei Zhang, Jiabin Lu, Qiusheng Yan. Tribological behavior of 6H–SiC wafers in different chemical mechanical polishing slurries. Wear[J]. 2021, 472-473(15) , 203649 SCI一区

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个人信息

潘继生Jisheng PAN

博士生导师硕士生导师

所在单位：机电工程学院

在职信息：在职

同专业博导

同专业硕导

论文成果

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(1) Qixiang Zhang, Jisheng Pan *, Xiaowei Zhang, Jiabin Lu, Qiusheng Yan. Tribological behavior of 6H–SiC wafers in different chemical mechanical polishing slurries. Wear[J]. 2021, 472-473(15) , 203649 SCI一区

发布时间：2021-03-05 点击次数：

是否译文：否

下一条：(2) Jisheng Pan, Zhijun Chen and Qiusheng Yan. Study on the rheological properties and polishing properties of SiO2@CI composite particle for sapphire wafer. Smart Materials and Structures[J], 2020，29(11). 114003 SCI二区