沈逸江

个人信息Personal Information

硕士生导师

教师拼音名称:shenyijiang

出生日期:1976-05-16

入职时间:2014-04-17

所在单位:自动化学院

学历:博士研究生毕业

性别:男

学位:哲学博士学位

在职信息:在职

其他联系方式Other Contact Information

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个人简介Personal Profile

本人自从2005年以来一直从事光刻系统成像和光学临近效应校正,图像合成,图像恢复技术,以及偏微分方程的数值计算等方面的研究工作。在此期间对光刻系统的矢量成像模型、反演光刻优化算法、二值图像的半正定恢复和偏微分方程的有限差分算法等多方面技术有比较深入的研究。在光刻成像系统、分辨率增强技术(RET)、光学临近校正(OPC)算法和机器学习等领域均有良好的研究背景,取得了一定的研究成果。代表性工作如下:

·       建立了基于相干照明和部分相干照明的标量成像模型,提出了掩模优化的基于水平集的数学模型和优化框架,依此构造了稳定时间模型的偏微分方程并设计了相关的时间领域有限差分算法。

·       建立了基于部分相干照明的矢量成像模型,提出了掩模优化和光源掩模协同优化的距离水平集(DLSR)正则化的水平集的数学模型和优化框架。

·       建立了包含光刻胶工艺叠层模型的矢量成像模型,并发展了窄带水平集优化框架和半隐式差分算法,提高了优化效率。

本人对学术界和业界的光刻系统成像模型、光学临近校正算法和分辨率增强技术的最新动态有比较深入的了解,在基础理论和单元技术方面已经取得若干研究成果并已经多次在国际会议及国际刊物上做会议报告和发表相关内容的论文;担任中科院微电子所主办的Journal of Microelectronic Manufacturing编委,光刻专业技术委员会高级会员2020年8月参加中国光学协会光刻专业技术委员会主办的光刻系列讲座并作题为“水平集算法在光学临近校正中的应用”的报告;参加了由夫琅和费集成系统与设备技术研究所主办的2016年第十五届国际光刻模拟研讨会并做报告;由中国集成电路创新研究院(筹)和中科院微电子所主办的2018年“集成电路先导技术”先进光刻研讨会并做报告;由中科院微电子所主办的2017年北京、2018年厦门、2019年南京和2020年成都国际先进光刻技术研讨会(IWAPS)积累了丰富的研究经验。


  • 教育经历Education Background
  • 工作经历Work Experience
  • 研究方向Research Focus
  • 社会兼职Social Affiliations
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